LH-1金相磨拋機(jī)為單盤(pán)臺(tái)式機(jī)，具有單盤(pán)獨(dú)立控制，轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、噪音低，操作、維修方便等優(yōu)點(diǎn)，能適合更多種材料的拋光要求，且本機(jī)帶有水冷卻裝置，可以在拋光時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織。在金相試樣制備過(guò)程中，試樣的拋光是一道主要工序，經(jīng)過(guò)磨光的試樣，在拋光機(jī)上拋光后，可獲得光亮如鏡的表面，P-1型金相試樣拋光機(jī)是一款經(jīng)典的拋光設(shè)備，是企業(yè)、科研單位以及大專院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備

LH-1金相磨拋機(jī)為單盤(pán)臺(tái)式機(jī)，具有單盤(pán)獨(dú)立控制，轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、噪音低，操作、維修方便等優(yōu)點(diǎn)，能適合更多種材料的拋光要求，且本機(jī)帶有水冷卻裝置，可以在拋光時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織。在金相試樣制備過(guò)程中，試樣的拋光是一道主要工序，經(jīng)過(guò)磨光的試樣，在拋光機(jī)上拋光后，可獲得光亮如鏡的表面，是一款經(jīng)典的拋光設(shè)備，是企業(yè)、科研單位以及大專院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備詳細(xì)參數(shù)，是金相試樣制備的關(guān)鍵設(shè)備，用于對(duì)預(yù)磨后的金屬、陶瓷、復(fù)合材料等試樣進(jìn)行精密拋光，獲得無(wú)劃痕、無(wú)變形的鏡面表面，滿足光學(xué)顯微鏡、掃描電鏡（SEM）等顯微分析要求。

拋光工藝方案

1. 粗拋光

• 磨料：6μm金剛石懸浮液

• 拋光布：硬質(zhì)尼龍布

• 參數(shù)：300-500rpm，壓力30-40N

2. 精拋光

• 磨料：0.05μm氧化鋁拋光液

• 拋光布：絲綢布

• 參數(shù)：800-1200rpm，壓力10-20N

操作規(guī)范

1. 準(zhǔn)備工作

• 檢查設(shè)備狀態(tài)

• 安裝合適拋光布

• 配置拋光液

2. 操作流程

• 設(shè)置轉(zhuǎn)速/壓力參數(shù)

• 啟動(dòng)設(shè)備運(yùn)行

• 定時(shí)結(jié)束自動(dòng)停機(jī)

3. 維護(hù)保養(yǎng)

• 每日清潔拋光盤(pán)

• 每周檢查傳動(dòng)系統(tǒng)

• 每月校準(zhǔn)壓力傳感器

八、典型應(yīng)用

1. 金屬材料

• 鋼鐵顯微組織分析

• 鋁合金晶粒度評(píng)定

2. 陶瓷材料

• 氧化鋯燒結(jié)體檢測(cè)

• 碳化硅陶瓷界面研究

3. 復(fù)合材料

• 碳纖維增強(qiáng)材料截面制備

• 金屬基復(fù)合材料觀測(cè)

九、注意事項(xiàng)

1. 嚴(yán)禁干拋操作

2. 不同材料需選用專用拋光介質(zhì)

3. 定期檢查拋光盤(pán)平整度